拉普拉斯获得实用新型专利授权：“上料组件和膜层制备装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“上料组件和膜层制备装置”，专利申请号为CN202421933295.3，授权日为2025年5月30日。

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专利摘要：本申请涉及半导体及光伏电池技术领域，尤其涉及一种上料组件和膜层制备装置，解决了产品的侧面容易被膜层制备组件上的钙钛矿溶液污染的问题。上料组件包括：传动组件和驱动组件。传动组件被配置为承载产品。驱动组件与传动组件连接，被配置为驱动传动组件运动，以使传动组件沿第一方向将产品运输至工艺辊的上表面。沿第一方向，传动组件的与产品接触的表面的竖直高度增加，以使沿第一方向，被传动组件承载的一个产品的竖直高度逐渐增加，从而使产品先运动至工艺辊的上方，随着产品沿着第一方向运动，产品由工艺辊的上方落至工艺辊的上表面，使产品的下表面直接与工艺辊的上表面的溶液接触，从而避免产品的侧面被工艺辊上的溶液污染。

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今年以来拉普拉斯新获得专利授权82个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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